紫外线 超纯水处理

在半导体工业中，总有机碳（TOC）含量极低的超纯水（UPW）对于防止晶圆清洗、光刻和冲洗过程中出现缺陷至关重要。紫外线处理，尤其是波长在 185 纳米左右的紫外线处理，在降低 TOC 方面发挥着至关重要的作用。在这一波长下，会产生羟基自由基，从而有效氧化有机杂质并将其转化为 CO₂ 和 H₂O。先进的紫外线反应器配备了好乐紫外线灯、浸入管和好乐传感器，以确保精确的监控和稳定的水流。与反渗透、离子交换或电去离子（EDI）等其他净化步骤相结合，这些系统可以可靠地实现低于 1 ppb 的 TOC 值。这样的水纯度对于半导体生产中的工艺稳定性、提高产量和降低产品废品率至关重要。